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       AFS 先進磁控濺射系統

 

AFS系列磁控濺射系統是倍思科公司的旗艦産品,最多安裝6支磁控濺射靶槍。

該系統是一種主要為尖端科學研究應用而開發的多功能磁控濺射裝置,可以進行平衡态濺射、非平衡态濺射、偏壓濺射等。适用于在基材上鍍制各種金屬、非金屬、磁性材料 、化合物、半導體、陶瓷、有機或無機材料等。

Ø  磁場采用模塊化設計,可以在磁性/非鐵磁濺射,平衡/非平衡态濺射中轉換。

     這樣獨特的設計,可以使用戶根據不同的濺射材料來優化磁場,從而達到最理想的沉積效果。

Ø  可以有效的防止不同材料間的交叉污染, 能有效控制靶源的工作狀态,從而獲得最佳質量的薄膜。

     尤其在使用多材料共濺射時,優勢明顯。

Ø  有效的利用工藝氣體,濺射時的工作壓力可以最低(如低于0.05Pa),從而極大的提高了真空室内的潔淨度,

     有利于提高沉積時靶材原子的擴散能力獲得高質量的薄膜。

Ø  高品質的磁組及優化的結構設計,保證磁組的使用壽命最長。

Ø  可以搭載最新的多功能樣品台,實現樣品加熱、自轉、公轉、傾斜、升降、偏壓等功能。

Ø  沉積均勻性:+/-2.5% (光學方法測量)

 

 

 




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